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超纯水设备中气泡的去除方法

活性炭。超纯水技术在半导体行业的应用反渗透部分在半导体行业中，反渗透部分多采用双级反渗透工艺，以确保后续工艺的安全性。活性炭具有很强吸附情，在源水经过活性炭时，除了能吸附微粒子等，还能吸附气体，在工业生产中也常常采用活性炭除臭。活性炭有很多种，很好的活性炭是果壳活性炭，含碳量高，肯吸附性强。在超纯水设备的活性炭成为了去除气体的第l1关。除此之外，超纯水设备还有更高l级的去除气体的环节，不同的厂家采用不同的方式去除。

苏州千卓工程，  目前公司主营业务有：机电工程、电气工程、环保工程、水处理工程、管道工程等项目的设计、施工、维护。除此之外，超纯水设备还有更高l级的去除气体的环节，不同的厂家采用不同的方式去除。设备销售方面主要有：净水、纯水、超纯水、中水回用、污水处理、高浓度工业废水、循环零排放、废气处理、智能自控成套、动力机电成套、制冷、通风等方面。

超纯水技术在半导体行业的应用

1超纯水制造工艺半导体行业超纯水制造工艺可以概述为4个部分，分别为预处理部分、RO部分、电去离子部分和抛光混床部分。应测定悬浮液的浓度、其中固体粒子的粒径分布等，根据测定情况初步判断选用过滤设备的类型。在有些半导体厂中，也有用“阴床十阳床”代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定，这里主要探讨常用的电去离子工艺。

预处理部分预处理的作用是对原水进行粗加工.提供符合Ro进水要求的给水。RO膜可以去除水中的重金属、化学物质、颗粒物、细菌病毒、放l射性物质等对人体有害的物质。其主要用来去除原水中的悬浮物、胶体，使SD≤4;去除游离氯等氧化性物质;去除部分有机物;降低LSI ,避免碳酸盐结垢。在超纯水制造工艺中，传统预处理方式是“多介质过滤器+活性炭过滤器”。而该半导体制造厂采用了“粗过滤器+超滤装置”作为超纯水系统的预处理部分，主要原因如下:(I)传统的预处理过程中SDI值不好控制，一般>5，不利于后续的一级反渗透系统的运行;而超滤装置的出水SDI值比较稳定(}1)，能够有效地保证一级反渗透系统的运行。(2)传统的预处理方式占地而积大，而“粗过滤器+超滤装置”占地而积小，节约了基建费用。(3)与传统的预处理方式在更换填料时需要大量的人力和物力相比，超滤装置的更换比较方便。(4)近年来，由于超滤技术的不断成熟，系统能够稳定安全地运行，而且超滤膜的价格也有了大幅度的降低，在一次性投资和运行维护费用上跟传统的预处理方式相比差不多。